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請問金屬基底旋涂光刻膠進行前烘的參數(shù)如何設(shè)置 已有3人參與
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導(dǎo)師給小弟安排了個任務(wù)是在一個金屬基底上濺射一層薄膜，這個金屬基底也不是正�；且粋�異形基底具有懸空結(jié)構(gòu)。 現(xiàn)在基本工藝摸得差不多了，使用光刻濺射再lift-off的方法來做，但是最近小弟遇到一個問題需要各位大佬幫助。 目前是發(fā)現(xiàn)采用標準的前烘工藝來做（使用的光刻膠為az-4620，旋涂的厚度為10um左右。使用烘箱50度保溫半小時，90度保溫2小時—這個是廠家給我們的參考工藝），光刻膠烘得太透了，曝光之后肉眼看沒啥效果，顯影的時間也遠超別人標準基片的工藝，而且顯影效果不好，導(dǎo)致小弟現(xiàn)在做了幾個月東西還沒做出來。 現(xiàn)在的推測就是光刻膠前烘沒做好，懷疑是金屬導(dǎo)熱太快導(dǎo)致光刻膠的烘干比標準的硅片和玻璃片要快很多。 但是現(xiàn)在摸索烘膠溫度很耗時，我這個基片由于懸空所以不好用熱板，目前都是用的烘箱，按照標準的來做一次前烘耗時很長。所以請問大神們有沒有做過8~10微米的光刻膠在金屬基底上的烘膠工藝，小弟好找個參考值，烘箱和熱板都可以。 |
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babyoflion
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4樓2020-01-02 21:24:18
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supernatural: 專家，不要在帖子里宣傳公司了 2020-05-22 10:16:36
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只討論光刻的話，直接減90°c那個時間，減到1小時。你的顯影效果不好，說的應(yīng)該時黑邊嚴重，光刻膠的形貌很差，不能順利剝離。這就不是光刻的問題了，因為4620本來就這個德行。賣你光刻膠的也啥都不懂，瞎指導(dǎo)。 你這個金屬鏤空結(jié)構(gòu)，用烘箱確實比較麻煩，如果由頂部加熱的熱板，那是最好了，不過這個熱板要定制，你去買不劃算。你這個剝離工藝，盡可能的用負膠做，比如7133，專門做剝離的負膠，厚度5um，足夠了。唯一的麻煩是負膠需要后烘，溫度控制不好的話，底切做的差，剝離會難點兒，但比4620強百倍。 現(xiàn)在的光刻膠，一般都沒有烘箱使用的溫度參考，要靠自己摸，不過像對于7133這樣工藝寬容度比較大的，還是比較容易的，先拿硅片試試，再用你的正片做就很容易了。 |
5樓2020-01-03 16:45:44
wfg0915
鐵蟲 (初入文壇)
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6樓2020-01-03 16:54:12
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7樓2020-03-06 12:31:47
astyake0309
新蟲 (初入文壇)
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supernatural: 金幣-2, 屏蔽內(nèi)容, 違規(guī)存檔, 你已經(jīng)多次打廣告了，再打廣告就禁言！ 2020-04-19 12:33:57
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8樓2020-04-17 00:04:49
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