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請(qǐng)問(wèn)金屬基底旋涂光刻膠進(jìn)行前烘的參數(shù)如何設(shè)置 已有3人參與
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導(dǎo)師給小弟安排了個(gè)任務(wù)是在一個(gè)金屬基底上濺射一層薄膜，這個(gè)金屬基底也不是正�；且粋�(gè)異形基底具有懸空結(jié)構(gòu)。 現(xiàn)在基本工藝摸得差不多了，使用光刻濺射再lift-off的方法來(lái)做，但是最近小弟遇到一個(gè)問(wèn)題需要各位大佬幫助。 目前是發(fā)現(xiàn)采用標(biāo)準(zhǔn)的前烘工藝來(lái)做（使用的光刻膠為az-4620，旋涂的厚度為10um左右。使用烘箱50度保溫半小時(shí)，90度保溫2小時(shí)—這個(gè)是廠家給我們的參考工藝），光刻膠烘得太透了，曝光之后肉眼看沒啥效果，顯影的時(shí)間也遠(yuǎn)超別人標(biāo)準(zhǔn)基片的工藝，而且顯影效果不好，導(dǎo)致小弟現(xiàn)在做了幾個(gè)月東西還沒做出來(lái)。 現(xiàn)在的推測(cè)就是光刻膠前烘沒做好，懷疑是金屬導(dǎo)熱太快導(dǎo)致光刻膠的烘干比標(biāo)準(zhǔn)的硅片和玻璃片要快很多。 但是現(xiàn)在摸索烘膠溫度很耗時(shí)，我這個(gè)基片由于懸空所以不好用熱板，目前都是用的烘箱，按照標(biāo)準(zhǔn)的來(lái)做一次前烘耗時(shí)很長(zhǎng)。所以請(qǐng)問(wèn)大神們有沒有做過(guò)8~10微米的光刻膠在金屬基底上的烘膠工藝，小弟好找個(gè)參考值，烘箱和熱板都可以。 |
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yswyx 
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只討論光刻的話，直接減90°c那個(gè)時(shí)間，減到1小時(shí)。你的顯影效果不好，說(shuō)的應(yīng)該時(shí)黑邊嚴(yán)重，光刻膠的形貌很差，不能順利剝離。這就不是光刻的問(wèn)題了，因?yàn)?620本來(lái)就這個(gè)德行。賣你光刻膠的也啥都不懂，瞎指導(dǎo)。 你這個(gè)金屬鏤空結(jié)構(gòu)，用烘箱確實(shí)比較麻煩，如果由頂部加熱的熱板，那是最好了，不過(guò)這個(gè)熱板要定制，你去買不劃算。你這個(gè)剝離工藝，盡可能的用負(fù)膠做，比如7133，專門做剝離的負(fù)膠，厚度5um，足夠了。唯一的麻煩是負(fù)膠需要后烘，溫度控制不好的話，底切做的差，剝離會(huì)難點(diǎn)兒，但比4620強(qiáng)百倍。 現(xiàn)在的光刻膠，一般都沒有烘箱使用的溫度參考，要靠自己摸，不過(guò)像對(duì)于7133這樣工藝寬容度比較大的，還是比較容易的，先拿硅片試試，再用你的正片做就很容易了。 |
5樓2020-01-03 16:45:44
babyoflion
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4樓2020-01-02 21:24:18
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