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czcdxmc木蟲 (正式寫手)
MEMS小學(xué)生
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[求助]
氮化硅SiN膜上光刻后濺射鈦Ti或金Au后出現(xiàn)光刻膠PR鼓泡的情況 已有2人參與
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| SiN膜上光刻后做濺射工藝，濺射Ti或Au后出現(xiàn)光刻膠PR鼓泡的情況，蟲友門有遇到這種問(wèn)題的嗎？ |
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2樓2019-01-17 09:35:32
3樓2019-01-17 10:29:12
czcdxmc
木蟲 (正式寫手)
MEMS小學(xué)生
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4樓2019-01-18 13:50:35
【答案】應(yīng)助回帖
| 光刻膠出現(xiàn)玻璃態(tài)褶皺了么？如果濺射完成后光刻膠沒有褶皺邊緣形貌無(wú)異常的話，你可以排除溫度過(guò)高問(wèn)題。如果SiN有沒有對(duì)你差別比較大的話，你要考慮等離子體會(huì)產(chǎn)生大量紫外線，將對(duì)作為掩模的光刻膠產(chǎn)生二次曝光作用，曝光過(guò)程產(chǎn)生的氮?dú)饷芊庥诠饪棠z中從而在光刻膠內(nèi)外形成壓強(qiáng)差。一般光刻膠的水分和曝光不完全會(huì)有這種情況出現(xiàn)吧。給你篇文獻(xiàn)，你查查看看對(duì)比一下：感應(yīng)耦合等離子體干法刻蝕中光刻膠掩模的異常性 |
5樓2019-01-23 17:33:32
czcdxmc
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6樓2019-01-30 11:23:57
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