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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 材料綜合 » 綜合資源 » 磁控濺射TiN沉積失敗
| 查看: 2059 | 回復(fù): 10 | ||
| 【懸賞金幣】回答本帖問題，作者敖小歸將贈送您 10 個金幣 | ||
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磁控濺射TiN沉積失敗 已有2人參與
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用的TiN靶，射頻磁控濺射，純氬氣，壓強在3—4Pa，功率從50—100W都有嘗試。能起輝，輝光紫紅色，但是總是沉積不上，硅片上無任何東西，樣品托盤也無變化。濺射后靶材略有發(fā)黑。有時候功率高了靶材會發(fā)燙。請各位大佬指點一下，可能有哪些因素在影響？應(yīng)該怎么調(diào)參數(shù)才合適？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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2樓2021-03-05 00:13:29
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3樓2021-03-05 08:40:17
4樓2021-03-05 09:30:17
5樓2021-03-05 09:30:53
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6樓2021-03-05 22:18:16
7樓2021-03-08 10:52:12
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8樓2021-04-15 22:35:50
caojingpie
木蟲 (小有名氣)
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9樓2021-04-20 14:10:30
xingxingac
銀蟲 (小有名氣)
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10樓2021-04-20 15:14:14
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