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[求助]
磁控濺射TiN沉積失敗 已有2人參與
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用的TiN靶，射頻磁控濺射，純氬氣，壓強在3—4Pa，功率從50—100W都有嘗試。能起輝，輝光紫紅色，但是總是沉積不上，硅片上無任何東西，樣品托盤也無變化。濺射后靶材略有發(fā)黑。有時候功率高了靶材會發(fā)燙。請各位大佬指點一下，可能有哪些因素在影響？應(yīng)該怎么調(diào)參數(shù)才合適？ 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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- 專業(yè): 金屬材料表面科學(xué)與工程
10樓2021-04-20 15:14:14
2樓2021-03-05 00:13:29
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3樓2021-03-05 08:40:17
4樓2021-03-05 09:30:17
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