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磁控濺射TiN沉積失敗 已有2人參與
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用的TiN靶,射頻磁控濺射,純氬氣,壓強在3—4Pa,功率從50—100W都有嘗試。能起輝,輝光紫紅色,但是總是沉積不上,硅片上無任何東西,樣品托盤也無變化。濺射后靶材略有發(fā)黑。有時候功率高了靶材會發(fā)燙。請各位大佬指點一下,可能有哪些因素在影響?應(yīng)該怎么調(diào)參數(shù)才合適? 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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