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二七九二新蟲 (初入文壇)
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[求助]
光刻膠膜層皺紋 已有1人參與
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目的:在硅片上得到圓柱狀光刻膠。參數(shù):正性光刻膠AZ4620,每次1000rpm勻膠20um,用棉簽沾丙酮去邊膠,軟烘:90℃15min,再下一次勻膠,重復10次,得到200um厚膠層,曝光機12mJ/平方厘米,曝光200s+400s(曝光200s冷卻后再曝光400s),顯影用1:4稀釋的AZ400K,手動顯影:用鑷子夾住浸沒在顯影液并快速攪動,顯影時間平均在30min,得到的膠層在顯微鏡下看到膜層有嚴重網(wǎng)狀裂紋。 發(fā)自小木蟲手機客戶端 |
新蟲 (初入文壇)
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您好,就是曝光之后在顯微鏡下觀察膜層沒有這種裂紋,所以我猜測可能是顯影出現(xiàn)的問題,所以我懷疑有幾個點:1、顯影手動攪動非常猛烈是否會導致裂紋 2、顯影過程發(fā)現(xiàn)前期溶解速率較快,后期溶解慢:感覺都不是溶解,在顯影液里發(fā)現(xiàn)沒有溶解的小塊狀光刻膠(是否和沒有進行重吸水有關)3、用的顯影液AZ400K每次都用到變血紅色才換掉,是否有影響 發(fā)自小木蟲手機客戶端 |
新蟲 (初入文壇)
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