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ws4231153新蟲 (小有名氣)
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[求助]
想把NiCr薄膜做到1Ω怎么實現。 已有1人參與
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| 目前需要磁控濺射的NiCr薄膜做到1Ω,想著加長濺射時間增加厚度來減小電阻,但發(fā)現時間太久了薄膜出現開裂的情況,電阻在5Ω左右,請問有什么方法可以解決薄膜厚度太厚導致的開裂情況呢?或者減小NiCr薄膜電阻率有什么方法呢? |
木蟲之王 (文壇精英)
上善若水,利萬物而不爭
新蟲 (小有名氣)
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新蟲 (初入文壇)
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針對NiCr薄膜出現開裂情況,可以考慮以下方法: 1.降低濺射功率和濺射速率,逐步增加厚度,可以減少薄膜內部應力的積累,防止出現開裂情況。 2.增加基板溫度,可以增加NiCr薄膜的晶粒尺寸,提高膜層的織構性,減少應力集中,有助于減輕膜層開裂。 3.針對膜層厚度較大的情況,可以進行退火處理,消除殘留應力,使膜層結構更加完整,從而減少開裂現象的發(fā)生。 4.使用多層結構的NiCr薄膜,可以將薄膜分成多個較薄的層,避免出現單一層厚度過大而導致的開裂問題。 為了減小NiCr薄膜電阻率,可以考慮以下方法: 1.優(yōu)化濺射工藝參數,如氣氛、功率、時間等,以達到最佳的成膜效果。 2.添加合適數量的雜質元素,如鐵、硅、鉬等,這些元素的加入有助于提高NiCr薄膜的電導率和穩(wěn)定性。 3.選擇更高質量的NiCr材料,如制備高純度的NiCr合金材料等。 4.通過改變基板形狀、加強基板表面清潔度等方式,優(yōu)化基板對于薄膜生長的影響。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
新蟲 (小有名氣)
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