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ws4231153新蟲 (小有名氣)
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想把NiCr薄膜做到1Ω怎么實(shí)現(xiàn)��？ 已有1人參與
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| 目前需要磁控濺射的NiCr薄膜做到1Ω，想著加長濺射時(shí)間增加厚度來減小電阻，但發(fā)現(xiàn)時(shí)間太久了薄膜出現(xiàn)開裂的情況，電阻在5Ω左右，請問有什么方法可以解決薄膜厚度太厚導(dǎo)致的開裂情況呢？或者減小NiCr薄膜電阻率有什么方法呢？ |
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2樓2023-04-23 17:23:21
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3樓2023-04-23 19:24:03
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針對NiCr薄膜出現(xiàn)開裂情況，可以考慮以下方法： 1.降低濺射功率和濺射速率，逐步增加厚度，可以減少薄膜內(nèi)部應(yīng)力的積累，防止出現(xiàn)開裂情況。 2.增加基板溫度，可以增加NiCr薄膜的晶粒尺寸，提高膜層的織構(gòu)性，減少應(yīng)力集中，有助于減輕膜層開裂。 3.針對膜層厚度較大的情況，可以進(jìn)行退火處理，消除殘留應(yīng)力，使膜層結(jié)構(gòu)更加完整，從而減少開裂現(xiàn)象的發(fā)生。 4.使用多層結(jié)構(gòu)的NiCr薄膜，可以將薄膜分成多個(gè)較薄的層，避免出現(xiàn)單一層厚度過大而導(dǎo)致的開裂問題。 為了減小NiCr薄膜電阻率，可以考慮以下方法： 1.優(yōu)化濺射工藝參數(shù)，如氣氛、功率、時(shí)間等，以達(dá)到最佳的成膜效果。 2.添加合適數(shù)量的雜質(zhì)元素，如鐵、硅、鉬等，這些元素的加入有助于提高NiCr薄膜的電導(dǎo)率和穩(wěn)定性。 3.選擇更高質(zhì)量的NiCr材料，如制備高純度的NiCr合金材料等。 4.通過改變基板形狀、加強(qiáng)基板表面清潔度等方式，優(yōu)化基板對于薄膜生長的影響。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
5樓2023-04-25 21:09:26
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6樓2023-05-04 20:14:59
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