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磁控濺射的疑惑 已有5人參與
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| 如題，采用磁控濺射，靶材如果是高純石墨，得到的薄膜為無(wú)定型碳結(jié)構(gòu)，和靶材結(jié)構(gòu)差異性很大，但靶材如果是ITO靶，也就是氧化銦錫靶，得到的薄膜卻與靶材結(jié)構(gòu)近似，這是不是因?yàn)闅辶Ｗ拥霓Z擊過(guò)程，破壞了石墨的原子結(jié)構(gòu)，那如果是這樣的，濺射ITO的過(guò)程，為什么不會(huì)破壞ITO的結(jié)構(gòu)。 |
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 磁控濺射鍍膜工藝 |
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3樓2020-07-16 10:13:09
2樓2020-07-15 07:32:03
sciencetechn
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4樓2020-12-24 10:41:52
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5樓2020-12-24 16:42:41
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