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Andre_W銀蟲 (小有名氣)
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[交流]
SU8光刻膠顯影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人參與
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MEMS，我們是做Pancake工藝，旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min，然后110度30分，曝光能量給到140mj/cm2，曝后60度20min，PGMEA顯影6分鐘，顯微鏡下觀察密密麻麻黑斑（確認(rèn)為表面過刻蝕形成的坑），想問下老大們，怎么消除這些黑斑（坑）。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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7樓2020-09-18 20:21:12
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個(gè)紅包，謝謝回帖
supernatural: 金幣-2, 帖子里不允許留下聯(lián)系方式，已編輯掉 2020-05-27 12:53:37
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supernatural: 金幣-2, 帖子里不允許留下聯(lián)系方式，已編輯掉 2020-05-27 12:53:37
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可以排除法去分析：首先看一下是那個(gè)步驟中產(chǎn)生的黑點(diǎn)？涂膠？烘烤后？顯影后？ 其次，分析一下有可能是污染還是氣泡？ 25um厚膠有幾點(diǎn)需要注意：①判斷有沒有稀釋過？取膠有沒有引入氣體？有沒有可能引入污染？②膠很厚，前烘不要用烘箱，一定要用熱板，一定要烘透，否則殘存的溶劑會(huì)形成氣泡；③光刻膠有沒有過期？過期的膠曝光后會(huì)有含n氣體逸出 |
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Andre_W2樓2020-05-25 17:00:40
Andre_W
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3樓2020-05-25 20:13:52
Andre_W
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1.顯影以后發(fā)現(xiàn)的，表面是個(gè)坑狀黑點(diǎn)；2.前烘我們沒有氣體，我們只有烤箱，非熱板（現(xiàn)在是110度30分鐘，是不是需要加長時(shí)間）3.顯影我們使用的PGMEA和異丙醇；不太像是臟污，膜的表面沒有只有結(jié)構(gòu)層的空穴處有這個(gè)黑點(diǎn) 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
4樓2020-05-25 21:40:16
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