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Andre_W銀蟲 (小有名氣)
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[交流]
SU8光刻膠顯影后表面密密麻麻的黑斑 已有4人參與
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MEMS,我們是做Pancake工藝,旋涂完SU8光阻液旋涂25um厚度后90度10min,然后110度30分,曝光能量給到140mj/cm2,曝后60度20min,PGMEA顯影6分鐘,顯微鏡下觀察密密麻麻黑斑(確認為表面過刻蝕形成的坑),想問下老大們,怎么消除這些黑斑(坑)。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |

銀蟲 (小有名氣)

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可以排除法去分析:首先看一下是那個步驟中產(chǎn)生的黑點?涂膠?烘烤后?顯影后? 其次,分析一下有可能是污染還是氣泡? 25um厚膠有幾點需要注意:①判斷有沒有稀釋過?取膠有沒有引入氣體?有沒有可能引入污染?②膠很厚,前烘不要用烘箱,一定要用熱板,一定要烘透,否則殘存的溶劑會形成氣泡;③光刻膠有沒有過期?過期的膠曝光后會有含n氣體逸出 |
銀蟲 (小有名氣)
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1.顯影以后發(fā)現(xiàn)的,表面是個坑狀黑點;2.前烘我們沒有氣體,我們只有烤箱,非熱板(現(xiàn)在是110度30分鐘,是不是需要加長時間)3.顯影我們使用的PGMEA和異丙醇;不太像是臟污,膜的表面沒有只有結(jié)構(gòu)層的空穴處有這個黑點 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |

專家顧問 (著名寫手)
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專家經(jīng)驗: +651 |
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從你的工藝條件看,你用的GM10xx系列的SU8,他們家的SU8烘烤時間太長了。 而且估計你沒有做排泡,微泡會形成坑洞。另外,你用的烘箱,這個是很大的一個問題點,25um厚度的SU8,是強烈不建議用烘箱做的。 我覺得你首先光刻膠買錯了,其次工藝和工具都有問題。你私信我吧,或者直接找研材微納的技術(shù)部門來咨詢。也可以申請SU8工藝培訓(xùn)。 另外,你最好貼一下照片,因為你所謂的膜的表面沒有,而是結(jié)構(gòu)層的空穴處有,這個實在不好理解。我猜測你是想說,SU8的表面沒有任何問題,而是被顯影的地方有各種黑斑。那一般我們認為是顯影不潔,會有很多的麻點存在。顯影時間不夠,過度烘烤,襯底的問題,都有可能。還是具體咨詢吧,貼子里面說不完的。 |
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