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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 功能材料 » 功能薄膜 » 磁控濺射相關(guān)問題
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| 【懸賞金幣】回答本帖問題，作者李小坤將贈送您 20 個金幣 | |||
[求助]
磁控濺射相關(guān)問題 已有2人參與
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大佬們好，磁控濺射轟擊金屬靶材，例如Al、Sn等，能夠轟擊出相應的原子。但如果轟擊的靶材是無機化合物，例如ZnGa2O4，轟擊出來的是Zn,Ga,O原子還是ZnGa2O4分子呢？ 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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king小草
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- 專業(yè): 計算機應用技術(shù)
【答案】應助回帖
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首先了解磁控濺射的解釋更多的是通過高能粒子撞擊動能轉(zhuǎn)換的方式將靶材中的材料轟擊出來。過程中濺射出的成分可能是單個分子，原子，原子團等。在濺射過程，如果能量足夠，靶材里有易揮發(fā)，易分解的成分，則可能發(fā)生相應的反應。不清楚你說的ZnGa2O4的性質(zhì)。首先定制的靶材中應該是以ZnGa2O4形式存在，如果轟擊能量足夠，化學鍵斷裂可能會出現(xiàn)反應后的產(chǎn)物。 另外看到有介紹在合金靶材中，濺射出的組分比例就并非定制靶材的比例。濺射系數(shù)高的優(yōu)先被濺射出去，組分變化，同時熱力學作用下表層擴散遷移，使表層達到穩(wěn)定比例。得到的膜跟靶材的比例會有差異。 這樣想制備特定成分的膜層，就會考慮在反應過程中添加反應氣體等方式控制組分。 |
2樓2024-11-13 17:16:22
sciencetechn
新蟲 (小有名氣)
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- 專業(yè): 金屬材料表面科學與工程
3樓2025-02-24 16:59:46
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