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Alicat(艾里卡特):精確流量和壓力控制 | CVD(化學氣相沉積)
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化學氣相沉積(CVD)是一種薄膜工藝,化學氣相沉積是反應物質在氣態(tài)條件下發(fā)生化學反應,生成固態(tài)物質沉積在加熱的固態(tài)基體表面,進而制得固體材料的工藝技術。化學氣相沉積的方法很多,包括MOCVD、ALD、CVI和PECVD等。有機金屬化學氣相沉積(MOCVD)是把反應物質全部以有機金屬化合物的氣體分子形式,用H2作載帶氣體送到反應室,進行熱分解反應而形成化合物半導體的一種新技術。 Alicat(艾里卡特)的質量流量和壓力控制器非常適用于MOCVD 系統(tǒng),因為捕獲的前體和載氣的流量和壓力必須經(jīng)過精確控制,以達到理想操作效率。在這里,我們將討論幾個MOCVD系統(tǒng)設計選項,Alicat 設備為重要的MOCVD變量(如氣體流量、壓力等)提供高重復性、快速和閉環(huán)控制。 具體看這篇文章:https://mp.weixin.qq.com/s/Nu0oZLt7pTLkXtIOSO_JPA |
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Alicat(艾里卡特)可提供高精度、快速控制的氣體、液體的質量流量控制器、質量流量計、壓力控制器等產(chǎn)品。 聯(lián)系方式:電郵info-cn@alicat.com、致電 400 920 5760 /+86-21-61519020 歡迎垂詢! |

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