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| 【懸賞金幣】回答本帖問題，作者llyolive將贈送您 5 個金幣 | ||
[求助]
XPS關(guān)于O1s的分析，為什么Si的O1，O2,O3和其他這么不同
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| 看文獻里一般O1s的晶格氧一半結(jié)合能最低，當產(chǎn)生氧空位時為了保持電中性，金屬離子為了保持電中性需要降低價態(tài)，而缺位上吸附氧向高結(jié)合能方向移動，所以一般O1，O2，O3的結(jié)合能排序是O1<O2<O3,對于一般金屬利于Zn都是適用的。但為什么Si這么特殊呀，他的晶格氧（Sio2）結(jié)合能大概在533 ev，而缺陷氧SiOx和C-O相近在531.8ev左右，而吸附氧就更奇怪了，在534ev左右。呈現(xiàn)一個O2<O1<O3的樣子。請問各位大神，為什么Si這么特殊，他的O1，O2，O3到底怎么分的，有什么相關(guān)文獻嗎？求求各位大神不吝賜教��！ |
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