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Bluebery1新蟲 (小有名氣)
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[求助]
ICP刻蝕Cr做掩膜的Ge,本該出現(xiàn)柱形結構結果卻出現(xiàn)了凹坑
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| 沉底Ge上鍍又25nm左右的Cr掩膜,ICP刻蝕的結果預期是生成柱子,結果卻生成了一個個200nm左右的凹坑。我知道刻蝕的大概原理,但是想不明白本該是柱子的東西怎么會變成凹坑,有沒有可能是刻蝕條件的問題導致的呢? |
新蟲 (小有名氣)
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