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zxy3235566新蟲 (初入文壇)
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[求助]
關(guān)于磁控濺射沉積薄膜中功率變化對(duì)薄膜成分的影響，求教各位大佬！ 已有2人參與
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| 用的是RF磁控濺射設(shè)備，靶材是高熵合金（TiVCrNbSiTaBY），隨著我增加功率，薄膜中比較輕的一個(gè)元素（Si）含量上升了，做的是氮化物薄膜，請(qǐng)各位大佬指點(diǎn)一下該怎么解釋呀？ |
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zxy3235566
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4樓2022-03-10 18:44:44
zxy3235566
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2樓2022-03-08 19:16:12
kangye_1989
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3樓2022-03-10 12:57:47
zxy3235566
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5樓2022-03-14 13:08:30
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