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jinzhao628新蟲 (初入文壇)
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[求助]
請教各位納米加工大神，為什么在Ag上鍍TiO2薄膜的光譜總是和理論對不上
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結構比較簡單，就是單純的一維結構，在硅基底上先鍍一層銀，再鍍一層TiO2 嘗試過用ALD鍍TiO2（前驅體為TiCl4），結果發(fā)現(xiàn)在高溫過程后TiO2生長的很不均勻，光譜也和理論解對不上，薄膜表面存在可見的氣泡 嘗試過用磁控濺射鍍兩層結構，分別標定了折射率和厚度均沒問題后，兩層結構加工在一起就和理論解有極大的差別，不知為何銀在可見光長波段和近紅外區(qū)域的反射能力都被破壞了（靶材用的是導電的TiO2靶材，黑色，可能存在摻雜元素） 嘗試過用電子束蒸鍍鍍雙層結構，但會出現(xiàn)TiO2折射率偏小的問題（可能只有2.0~2.1），光譜和理論也對不上 請教一下各位大神上述加工失敗的原因可能是什么，如何解決呢？ 考慮到納米銀薄膜和納米TiO2薄膜的特性，用什么工藝加工這種結構比較合適呢？ 跪謝 |
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jinzhao628
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jinzhao628
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