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jinzhao628新蟲 (初入文壇)
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請教各位納米加工大神,為什么在Ag上鍍TiO2薄膜的光譜總是和理論對不上
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結(jié)構(gòu)比較簡單,就是單純的一維結(jié)構(gòu),在硅基底上先鍍一層銀,再鍍一層TiO2 嘗試過用ALD鍍TiO2(前驅(qū)體為TiCl4),結(jié)果發(fā)現(xiàn)在高溫過程后TiO2生長的很不均勻,光譜也和理論解對不上,薄膜表面存在可見的氣泡 嘗試過用磁控濺射鍍兩層結(jié)構(gòu),分別標(biāo)定了折射率和厚度均沒問題后,兩層結(jié)構(gòu)加工在一起就和理論解有極大的差別,不知為何銀在可見光長波段和近紅外區(qū)域的反射能力都被破壞了(靶材用的是導(dǎo)電的TiO2靶材,黑色,可能存在摻雜元素) 嘗試過用電子束蒸鍍鍍雙層結(jié)構(gòu),但會出現(xiàn)TiO2折射率偏小的問題(可能只有2.0~2.1),光譜和理論也對不上 請教一下各位大神上述加工失敗的原因可能是什么,如何解決呢? 考慮到納米銀薄膜和納米TiO2薄膜的特性,用什么工藝加工這種結(jié)構(gòu)比較合適呢? 跪謝 |
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先沉積氧化鋁是想把銀和氧化鈦隔開,有沒有用做了才知道,有四五個納米應(yīng)該就夠。沉積溫度高分別對應(yīng)銳鈦礦和金紅石,摻點(diǎn)氧化鋁抑制晶粒長大,這樣透過率和表面形貌得以控制,具體摻雜比例還看你需求,多試試了。 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
新蟲 (初入文壇)
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