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nononorain新蟲 (初入文壇)
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[求助]
AZ5214參數(shù)設(shè)計 已有1人參與
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用偽博世工藝進行硅刻蝕,打算直接用光刻膠做掩模版,光刻膠擬采用AZ5214,厚度擬定5微米,想要在光刻顯影后得到側(cè)壁垂直的光刻層,請問工藝參數(shù)怎么設(shè)定? 1.旋膠速度和時間。查了相關(guān)資料,AZ5214 2000轉(zhuǎn)下厚度 2微米,那5微米怎么設(shè)定,要多次旋膠嗎; 2.曝光和顯影時間怎么確定 |
新蟲 (初入文壇)
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