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使用202負膠后鍍Cr的lift-off工藝中Cr兩側(cè)長墻大家有遇到過嗎？有解決方法嗎？ 已有1人參與
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| 在硅片基底上用正膠+lor（1um）做的光刻，線寬10um，然后鍍100nm的Cr剝離，用SEM觀測發(fā)現(xiàn)所鍍Cr兩邊的側(cè)壁長出了一道墻，像是延光刻膠長出來，不知道有沒有解決方法。 |
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5樓2021-01-12 15:26:24
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