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[交流]
氧化鋁介電層被后續(xù)工藝中的顯影液腐蝕 已有3人參與
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鍍了一層50nm的氧化鋁薄膜作為場(chǎng)效應(yīng)管的柵極介質(zhì)，后續(xù)工藝中通過(guò)光刻制備電極。選用EPG535正膠，顯影液為0.5%NaOH或2.38%TMAH，都發(fā)現(xiàn)這層氧化鋁被腐蝕了（紫外光刻顯影液基本都是強(qiáng)堿性的），有蟲(chóng)子遇到過(guò)這種情況嗎？如何避免呢，謝謝！ 圖片1.png |
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babyoflion
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2樓2020-10-07 02:28:08
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bobo201266
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4樓2020-10-07 15:58:34
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你再確認(rèn)下吧，氧化鋁和二氧化硅都不會(huì)和顯影液反應(yīng) 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
6樓2020-10-08 14:42:34
7樓2020-10-08 20:51:01
babyoflion
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你說(shuō)反了，都會(huì)的，只是強(qiáng)弱問(wèn)題 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |
8樓2020-10-09 13:22:09
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9樓2020-11-19 10:43:26
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