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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » SU-8前烘后表面凹凸不平
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[交流]
SU-8前烘后表面凹凸不平 已有2人參與
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我在實驗室用SU-8 2050做100um高的芯片，除濕和勻膠都沒問題，并且勻膠后表面平整，但是按照chem的Protocol設置前烘后（65℃ 5min；95℃ 15min），觀察到當溫度升溫到90℃左右時，硅片上的SU-8出現坑坑洼洼的情況。請問原理是什么，怎么改善。然后有推薦的做實驗時的溫濕度嗎。是不是濕度大，會導致前烘出現坑洼。附圖為情況較為好一些的，嚴重的上傳一直失敗。 1.jpg |
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bobo201266
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3樓2020-09-19 21:28:00
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