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小木蟲論壇-學(xué)術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 微納加工 » EBL套刻
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[求助]
EBL套刻 已有1人參與
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想問一下現(xiàn)在我有石英基片上鍍了60nmAg、10nmSiO2，現(xiàn)在想先做一次EBL鍍上Au標(biāo)記，100nm，然后用EBL做兩次套刻，這種方案可以嗎？ 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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3樓2020-02-13 10:16:02
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【答案】應(yīng)助回帖
supernatural: 不要宣傳 2020-05-12 11:05:22
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描述的不清楚，所以只能猜你的方案。 你是想分別做sio2，ag和石英的圖案嗎？還是只做前兩者？ 無論哪一種，你的方案都是不對的。因?yàn)闅gau標(biāo)記和ag襯底會重疊，電子束光刻機(jī)無法清晰識別出au和ag層的區(qū)別，100nm的深度區(qū)別不夠。因?yàn)槎坞娮拥呐_階識別能力是比較差的。 好的方法是，直接電子束光刻，先做ag層的圖案，同時做ag標(biāo)記。然后濺射sio2，再做電子束光刻（限制是sio的圖案必須在ag圖案范圍內(nèi)，如果是你是電極開窗口，那肯定是如此）。如果sio的圖案超出ag的圖案范圍，那就需要在石英襯底上預(yù)先刻蝕500nm以上深度的標(biāo)記，來作為后續(xù)電子束光刻的對準(zhǔn)標(biāo)記。 |
2樓2019-12-30 17:03:01
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