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kevin123581金蟲 (正式寫手)
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[交流]
關(guān)于磁控濺射和離子濺射的幾個問題 已有2人參與
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我是做激光沉積鍍膜的，沒有做過磁控濺射（magnetron）和離子濺射（ion beam sputtering）相關(guān)的工作，所以想請教下大家?guī)讉�相關(guān)問題： 上述兩種方法是否都能同時沉積兩種不同的靶材？ 兩種靶材的沉積速率是否能單獨控制？ 對于其中一種靶材的沉積速率，在濺射過程中能否改變？ 比如沉積率給定一個特定曲線？ 謝謝大家 |
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kevin123581
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4樓2019-09-09 12:54:43
L小懶蟲
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小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
kevin123581: 金幣+10 2019-09-09 12:54:59
小木蟲: 金幣+0.5, 給個紅包，謝謝回帖
kevin123581: 金幣+10 2019-09-09 12:54:59
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1.可以 2.看設(shè)備，一般都可以單獨控制 3.多層，分段控制程序可以對每一階段單獨控制 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
2樓2019-09-09 07:00:41
CF_W
鐵蟲 (初入文壇)
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3樓2019-09-09 10:31:09
kevin123581
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5樓2019-09-09 12:55:13
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