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kevin123581金蟲 (正式寫手)
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[交流]
關(guān)于磁控濺射和離子濺射的幾個(gè)問題 已有2人參與
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我是做激光沉積鍍膜的,沒有做過磁控濺射(magnetron)和離子濺射(ion beam sputtering)相關(guān)的工作,所以想請(qǐng)教下大家?guī)讉(gè)相關(guān)問題: 上述兩種方法是否都能同時(shí)沉積兩種不同的靶材? 兩種靶材的沉積速率是否能單獨(dú)控制? 對(duì)于其中一種靶材的沉積速率,在濺射過程中能否改變? 比如沉積率給定一個(gè)特定曲線? 謝謝大家 |
木蟲 (著名寫手)
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1.可以 2.看設(shè)備,一般都可以單獨(dú)控制 3.多層,分段控制程序可以對(duì)每一階段單獨(dú)控制 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
鐵蟲 (初入文壇)
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金蟲 (正式寫手)
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