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[求助]
求助除去模板的方法的注意事項(xiàng)
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我之前用二氧化硅為模板制備納米球，用HF為刻蝕劑除去二氧化硅模板。但是照掃描和透射電鏡發(fā)現(xiàn)，可能是HF的濃度太強(qiáng)了，或者在用KOH造孔時(shí)KOH量太多了，對(duì)球的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了破壞，使得照出來的很多球結(jié)構(gòu)不完整，有的不成球，有的球被破壞了，有的呈片狀。請(qǐng)問大家在用模板法除二氧化硅時(shí)HF的用量和濃度及時(shí)間如何控制的啊?實(shí)驗(yàn)小白，請(qǐng)大家指導(dǎo)和提供寶貴意見，謝謝大家了！ @xiejf @nowitzki_ci @神魔流轉(zhuǎn) @wulishi8 @dut_ameng 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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陽(yáng)仔1314520
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6樓2020-11-03 17:49:35
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