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小木蟲論壇-學術科研互動平臺 » 材料區(qū) » 微米和納米 » 合成表征 » 求助除去模板的方法的注意事項
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[求助]
求助除去模板的方法的注意事項
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我之前用二氧化硅為模板制備納米球，用HF為刻蝕劑除去二氧化硅模板。但是照掃描和透射電鏡發(fā)現(xiàn)，可能是HF的濃度太強了，或者在用KOH造孔時KOH量太多了，對球的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了破壞，使得照出來的很多球結(jié)構(gòu)不完整，有的不成球，有的球被破壞了，有的呈片狀。請問大家在用模板法除二氧化硅時HF的用量和濃度及時間如何控制的啊?實驗小白，請大家指導和提供寶貴意見，謝謝大家了！ @xiejf @nowitzki_ci @神魔流轉(zhuǎn) @wulishi8 @dut_ameng 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
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