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[求助]
金屬鈦薄膜在高溫下是否會與氮?dú)夥磻?yīng)形成TiN薄膜
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采用電子束或者磁控濺射等PVD設(shè)備制備的Ti薄膜，厚度在幾百個(gè)納米范圍內(nèi)（>100nm），在氮?dú)夥諊鷥?nèi)，溫度600-900攝氏度范圍，持續(xù)時(shí)間1min-10min。 問題：①該Ti薄膜的表面是否會形成TiN，形成的TiN厚度一般是多少，（用薄膜總厚度的比例表征或者是厚度表征一下） ②如果會形成TiN薄膜，一般怎么去表征這層TiN薄膜的質(zhì)量？（導(dǎo)電性？表面形貌？結(jié)晶？） ③是否有這方面的文獻(xiàn)可以參考？（我也不清楚找哪方面的，我的目的是直接做出TiN，但是設(shè)備的硬件條件比較難做出來，只能靠這種方式嘗試形成導(dǎo)電性良好且穩(wěn)定性好的TiTiN薄膜） |
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