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求助除去模板的方法的注意事項(xiàng)
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我之前用二氧化硅為模板制備納米球,用HF為刻蝕劑除去二氧化硅模板。但是照掃描和透射電鏡發(fā)現(xiàn),可能是HF的濃度太強(qiáng)了,或者在用KOH造孔時(shí)KOH量太多了,對(duì)球的結(jié)構(gòu)產(chǎn)生了破壞,使得照出來(lái)的很多球結(jié)構(gòu)不完整,有的不成球,有的球被破壞了,有的呈片狀。請(qǐng)問(wèn)大家在用模板法除二氧化硅時(shí)HF的用量和濃度及時(shí)間如何控制的啊?實(shí)驗(yàn)小白,請(qǐng)大家指導(dǎo)和提供寶貴意見(jiàn),謝謝大家了! @xiejf @nowitzki_ci @神魔流轉(zhuǎn) @wulishi8 @dut_ameng 發(fā)自小木蟲(chóng)Android客戶端 |

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新蟲(chóng) (初入文壇)

新蟲(chóng) (小有名氣)
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