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【團(tuán)隊(duì)優(yōu)惠/誠(chéng)邀投稿】2026年光電技術(shù)與激光應(yīng)用國(guó)際研討會(huì)（ISOTLA 2026）
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2026年光電技術(shù)與激光應(yīng)用國(guó)際研討會(huì)（ISOTLA 2026） 2026 International Symposium on Optoelectronic Technology and Laser Applications（ISOTLA 2026） 開(kāi)會(huì)時(shí)間：2026年3月18日（暫定）青島，中國(guó)（線上+線下） 一、會(huì)議重要信息 會(huì)議官網(wǎng)：www.confs-online.com/isotla 截稿時(shí)間：以官網(wǎng)為準(zhǔn)（延期投稿者請(qǐng)咨詢(xún)會(huì)議組江老師） 投稿郵箱：ei_icamt@126.com（投稿主題請(qǐng)注明：ISOTLA 2026+通訊作者姓名+江老師推薦，否則無(wú)法確認(rèn)您的稿件） 審核錄用：投稿后約3個(gè)工作日 會(huì)議出版：IEEE、SPIE、ACM等權(quán)威出版社 會(huì)議收錄：EI Compendex, Scopus, CPCI，Google Scholar, CrossRef, ResearchGate等數(shù)據(jù)庫(kù)穩(wěn)定檢索 注：投稿文章均將以會(huì)議論文集形式正式出版，出版后收錄有ISSN和ISBN雙刊號(hào)。團(tuán)隊(duì)及學(xué)生投稿享有優(yōu)惠，具體請(qǐng)咨詢(xún)會(huì)議組江老師。若不投稿，亦歡迎報(bào)名參與口頭匯報(bào)或旁聽(tīng)。如需了解SSCI/SCI期刊、中文核心期刊或三大網(wǎng)省級(jí)期刊等其他發(fā)表資源，也歡迎聯(lián)系會(huì)議組老師咨詢(xún)。 二、大會(huì)介紹 2026年光電技術(shù)與激光應(yīng)用國(guó)際研討會(huì)（ISOTLA 2026）定在中國(guó)青島舉行。會(huì)議將圍繞光電技術(shù)與激光應(yīng)用等在光學(xué)領(lǐng)域中的最新研究成果，為來(lái)自國(guó)內(nèi)外高等院校、科學(xué)研究所、企事業(yè)單位的專(zhuān)家、教授、學(xué)者、工程師等提供一個(gè)分享專(zhuān)業(yè)經(jīng)驗(yàn)，擴(kuò)大專(zhuān)業(yè)網(wǎng)絡(luò)，面對(duì)面交流新思想以及展示研究成果的國(guó)際平臺(tái)，探討本領(lǐng)域發(fā)展所面臨的關(guān)鍵性挑戰(zhàn)問(wèn)題和研究方向，以期推動(dòng)該領(lǐng)域理論、技術(shù)在高校和企業(yè)的發(fā)展和應(yīng)用，也為參會(huì)者建立業(yè)務(wù)或研究上的聯(lián)系以及尋找未來(lái)事業(yè)上的全球合作伙伴。大會(huì)誠(chéng)邀國(guó)內(nèi)外高校、科研機(jī)構(gòu)專(zhuān)家、學(xué)者、企業(yè)界人士及其他相關(guān)人員參會(huì)交流。 三、征稿主題 （包括但不限于）： 主題一：光電技術(shù) 光電信號(hào) 光電成像技術(shù) 半導(dǎo)體光電子學(xué) 非成像光學(xué)設(shè)備 光電儀器與器件 納米光電子學(xué) 光纖通信與系統(tǒng) 光電測(cè)控與光電傳感 工程光學(xué) 光存儲(chǔ)和顯示技術(shù) 非線性光學(xué)現(xiàn)象與材料 統(tǒng)計(jì)光學(xué)：原理與技術(shù) 光度計(jì)與輻度計(jì) 集成光學(xué)元件 光學(xué)計(jì)算 薄膜光學(xué)設(shè)備 通信和感測(cè)中的光纖技術(shù) 生物醫(yī)學(xué)光子學(xué)的創(chuàng)新應(yīng)用 主題二：激光應(yīng)用 激光的基本原理 激光加工系統(tǒng)設(shè)計(jì)與優(yōu)化 先進(jìn)激光加工技術(shù) 激光器的分類(lèi)、組成和特性 激光自混合干涉技術(shù) 特種光纖 光纖激光 光纖磁場(chǎng)傳感技術(shù) 隨機(jī)激光 量子光學(xué)與信息 大氣光學(xué)與環(huán)境監(jiān)測(cè) 晶體光學(xué)和超材料 光學(xué)中的電磁波 光譜學(xué) 新型激光光譜與傳感技術(shù) 液晶激發(fā)光纖材料 激光在工業(yè)中的應(yīng)用 幾何光學(xué)：原理與應(yīng)用 波動(dòng)光學(xué)：理論與實(shí)驗(yàn)等 四、投稿流程 1.直接將您的文章或摘要投到我們的會(huì)議郵箱，我們收到后會(huì)第一時(shí)間回復(fù)您。 投稿郵箱：ei_icamt@126.com（投稿主題請(qǐng)注明：ISOTLA 2026+通訊作者姓名+江老師推薦，否則無(wú)法確認(rèn)您的稿件） 2.審稿流程：作者投稿-稿件收到確認(rèn)（1個(gè)工作日）-初審(1-3工作日)-告知結(jié)果（接受/拒稿），越早投稿越早收到文章結(jié)果。 五、投稿說(shuō)明 1.本會(huì)議官方語(yǔ)言為英語(yǔ)，投稿者務(wù)必用英語(yǔ)撰寫(xiě)論文。如需翻譯服務(wù)請(qǐng)聯(lián)系會(huì)議組江老師詳詢(xún)。 2.向ISOTLA 2026提交的所有文章將發(fā)送給至少兩名評(píng)審員，并根據(jù)原創(chuàng)性、技術(shù)或研究?jī)?nèi)容或深度、正確性、與會(huì)議的相關(guān)性、貢獻(xiàn)和可讀性進(jìn)行評(píng)估。 3.論文應(yīng)具有學(xué)術(shù)或?qū)嵱脙r(jià)值，未在國(guó)內(nèi)外學(xué)術(shù)期刊或會(huì)議發(fā)表過(guò)。作者可通過(guò)CrossCheck,Turnitin或其他查詢(xún)系統(tǒng)自費(fèi)查重，否則由文章重復(fù)率引起的被拒搞將由作者自行承擔(dān)責(zé)任。涉嫌抄襲的論文將不被出版。 4.文章至少6頁(yè)。論文模板請(qǐng)至官網(wǎng)下載。學(xué)生作者或多篇投稿有優(yōu)惠。 5.只做報(bào)告不發(fā)表論文的作者只需提交摘要。 六、參會(huì)方式 1、主講嘉賓：申請(qǐng)主題演講，由組委會(huì)審核； 2、口頭演講：申請(qǐng)口頭報(bào)告，時(shí)間為10分鐘左右；（名額有限，優(yōu)先報(bào)名） 3、聽(tīng)眾參會(huì)：不投稿僅參會(huì)旁聽(tīng)； |
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[考研] 275求調(diào)劑 +7 | 明遠(yuǎn)求學(xué) 2026-03-01 | 7/350 |
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[考研] 材料類(lèi)求調(diào)劑 +11 | wana_kiko 2026-02-28 | 14/700 |
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[考研] 322求調(diào)劑 +3 | 熊境喆 2026-03-01 | 3/150 |
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[碩博家園] 博士自薦 +7 | 科研狗111 2026-02-26 | 11/550 |
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[考研] 328求調(diào)劑 +3 | aaadim 2026-03-01 | 5/250 |
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