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zhaojiang427至尊木蟲 (知名作家)
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[交流]
交流負(fù)性光刻膠靈敏度以及工藝曝光時間問題？
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首先描述一下我自己的困惑。通過資料和文獻(xiàn)的查閱我發(fā)現(xiàn)負(fù)性光刻膠的靈敏度是根據(jù)曝光能量（橫坐標(biāo)，mJ/cm2)與歸一化膜厚度（D，%）做一個曲線，然后一般靈敏度是膜厚為D0.5時橫坐標(biāo)的數(shù)值。而橫坐標(biāo)又是光源的功率（mW/cm2）乘以時間t(s)算出來的。很多時候D0.5時的靈敏度為50-100 mJ/cm2。這種時候用365的i線光刻機(jī)照射幾秒就可以了，為什么經(jīng)�？吹焦に嚻毓鈺r間寫5 min或者10 min。按理說不應(yīng)該是上面橫坐標(biāo)的幾秒鐘嗎？請問這種靈敏度曲線和后面光刻的曝光工藝的時間有什么關(guān)聯(lián)呢？很疑惑，剛接觸這個領(lǐng)域。比如下面圖片中的D0.5為33.15 mJ/cm2（Adv. Funct. Mater. 2025, e09278）。但是文中工藝曝光時間確實10 min。感覺這10 分鐘太長了。但是靈敏度確實33.15 mJ/cm2這么小。我都不太理解這個圖怎么做出來的。 發(fā)自小木蟲手機(jī)客戶端 |
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zhaojiang427
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2樓2025-09-05 11:07:38
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