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datuxiaotu新蟲 (初入文壇)
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[求助]
光致發(fā)光成像系統(tǒng)搭建問題
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有沒有做過第三代半導(dǎo)體材料的光致發(fā)光成像系統(tǒng)搭建的同行。我們想搭建一個晶圓的光致發(fā)光成像檢測系統(tǒng)，用于檢測材料的位錯缺陷。但是現(xiàn)在用我們搭建的試驗臺拍攝得到的照片完全看不到任何位錯缺陷，不知道哪里出了問題。 我們的樣品用的是N型碳化硅襯底材料。激光器用的325nm的He-Cd連續(xù)激光器（25mW），光斑沒有進行任何擴束或聚焦，直徑大概1.5mm。用功率器件檢測到光斑的功率大約12mW。紫外光照射在樣品上，肉眼可見激發(fā)出了紅光。測過波長大約685nm。成像用的變倍鏡頭+CMOS。鏡頭前有放700nm的長波通濾光片。圖像可見樣品表面的劃痕和灰塵。但是，沒有觀察到任何位錯形成的暗斑或者暗線。有沒有大神給指導(dǎo)一下，到底哪里出了問題。是不是用的激光器功率不夠。還是濾光片不夠，散射光沒過濾掉。。。 |
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