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[求助]
介孔硅球在碳酸鈉刻蝕后介孔通道內還有模板劑嗎？
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我正在做：以實心二氧化硅（sSiO2）為核心模版，CTAB為介孔模版制備實心介孔硅，再用碳酸鈉溶蝕sSiO2，制備HMSNs的課題。制備成功HMSNs后還需要在做合成，文獻表示介孔通道里面是否有CTAB對產物有影響。 想求助各位大佬：刻蝕后HMSNs介孔通道內還會殘留有CTAB嗎？如果沒有，有什么辦法能再摻雜進去嗎？ |
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2樓2024-10-18 12:11:58
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