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appleliu0506金蟲(chóng) (小有名氣)
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[求助]
如何提高lift-off過(guò)程中電極的剝離速度和潔凈度？ 已有1人參與
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| 目前電極尺度在6微米，空白溝道1.5微米，這個(gè)尺度使用AZ膠光刻后，lift-off經(jīng)常出現(xiàn)電極沉積不上去的問(wèn)題。請(qǐng)教如何解決 |
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appleliu0506
金蟲(chóng) (小有名氣)
- 應(yīng)助: 4 (幼兒園)
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- 蟲(chóng)號(hào): 985161
- 注冊(cè): 2010-03-29
- 專(zhuān)業(yè): 電化學(xué)
3樓2024-03-27 11:16:33
【答案】應(yīng)助回帖
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感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
appleliu0506: 金幣+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
感謝參與，應(yīng)助指數(shù) +1
appleliu0506: 金幣+30, ★★★★★最佳答案 2024-03-27 11:16:45
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lift-off的過(guò)程影響因素比較多：基底，光刻尺度，膜層厚度，浸泡溶液，plasma清洗等都會(huì)受到影響。 個(gè)人的經(jīng)驗(yàn)是，尺度在1微米左右的光刻圖案，建議使用Ti/Au的比例在1：3，e-beam沉積速率都控制在0.5A/s，之后使用丙酮浸泡30 min，期間不要晃動(dòng)和處理基片。可以考慮在顯影之后使用plasma處理30s（100w的情況下）。 尺度較大的光刻圖案可使用NMP/DMSO等快速lift-off的浸泡溶液。 個(gè)人淺見(jiàn)，歡迎討論~ |
2樓2024-03-27 11:09:53
4樓2024-03-27 11:26:51
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