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高NA物鏡聚焦的分析
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摘要 高NA物鏡廣泛用于光學光刻，顯微鏡等。因此，在聚焦仿真中最基本的就是考慮光的矢量性質(zhì)。 使用VirtualLab對這種鏡頭進行光線追跡和場追跡分析非常方便。通過場追跡，可以清楚地展示不對稱焦斑，這源于矢量效應。相機探測器和電磁場探測器為聚焦區(qū)域的研究提供了充分的靈活性，可以讓用戶深入了解矢量效應。 建模任務 概觀 光線追跡仿真 •首先選擇“光線追跡系統(tǒng)分析器”（Ray Tracing System Analyzer）作為仿真引擎。 •點擊Go！ •獲得3D光線追跡結(jié)果。 光線追跡仿真 •然后，選擇“光線追跡”（Ray Tracing）作為仿真引擎。 •單擊Go！ •結(jié)果，獲得點列圖（2D光線追跡結(jié)果）。 場追跡仿真 •切換到場追跡并選擇“第二代場追跡”（Field Tracing 2nd Generation）作為仿真引擎。 •單擊Go！ 場追跡結(jié)果（攝像機探測器） •上圖只顯示整合了Ex和Ey場分量的強度。 •下圖顯示整合了Ex，Ey和Ez分量的強度。 Ez分量：由于在高NA情況下相對較大的Ez分量，可以看到明顯的不對稱性。 場追跡結(jié)果（電磁場探測器） •所有電磁場分量均使用電磁場探測器獲得。 文件信息 |
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