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| 【懸賞金幣】回答本帖問(wèn)題,作者哈哈哈613將贈(zèng)送您 5 個(gè)金幣 | ||
哈哈哈613新蟲 (初入文壇)
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[求助]
求問(wèn),用紫外開發(fā)一個(gè)檢溶劑殘留的方法 已有1人參與
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公司這邊要開發(fā)一個(gè)方法,結(jié)合溶劑本身性質(zhì)需要用紫外吸光光度法,現(xiàn)在有幾點(diǎn)疑問(wèn) 1.標(biāo)準(zhǔn)樣品需要幾個(gè)梯度呢,是只要能保證樣品濃度在這個(gè)范圍內(nèi)就行嗎?比如建立三四個(gè)也行,看了幾個(gè)文獻(xiàn)大多是建七八個(gè) 2.是建立標(biāo)準(zhǔn)曲線時(shí),直接用空白對(duì)照去零還是,空白對(duì)照就做為零點(diǎn)數(shù)據(jù)呢 @鴨綠江畔 @klicking 發(fā)自小木蟲Android客戶端 |
金蟲 (正式寫手)

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