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清華大學(xué)何向明課題組招聘 - 光刻工程師、質(zhì)量管控工程師、管培生
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招聘啟事 招聘人員： 1、 光刻工程師（4人） 2、 質(zhì)量管控工程師（2人） 3、 管培生（4人） 專業(yè)背景： MEMS/微電子集成電路/電子化學(xué)/精細(xì)化工/光學(xué)材料類專業(yè)（側(cè)重工藝技術(shù)） 職位要求： 1、 光刻工程師（30+萬/年）： 任職要求： 1、熟悉MEMS或集成電路光刻工藝技術(shù)，有相關(guān)行業(yè)從業(yè)經(jīng)歷優(yōu)先考慮； 2、有管理和優(yōu)化光刻設(shè)備曝光、涂膠、顯影的經(jīng)驗(yàn)及能力，能夠熟練應(yīng)用測量設(shè)備，了解基本概念及原理；與Fab 廠、掩模版廠對(duì)接并對(duì)本公司生產(chǎn)光刻膠進(jìn)行匹配調(diào)試。 3、思維清晰，分析判斷能力強(qiáng)，具有解決復(fù)雜問題的能力，很強(qiáng)的計(jì)劃性和執(zhí)行能力； 4、具備團(tuán)隊(duì)合作精神，協(xié)同其他工藝一起完成相關(guān)工藝改進(jìn)及研發(fā)工作； 5、會(huì)使用版圖設(shè)計(jì)軟件，具備較好的數(shù)據(jù)分析能力； 6、愿意學(xué)習(xí)先進(jìn)工藝技術(shù)，能適應(yīng)無塵室工作環(huán)境。 崗位職責(zé)： 1、負(fù)責(zé)MEMS的光刻（包括勻膠、顯影、曝光等）工藝方案的設(shè)計(jì)與改進(jìn)，包括新工藝的開發(fā)和現(xiàn)有工藝的改進(jìn)； 2、能夠熟練操作工藝設(shè)備并處理工藝異常，查找異常原因，提出具體整改措施并實(shí)施； 3、各類光刻工藝質(zhì)量文件的編寫與完善，監(jiān)控工藝數(shù)據(jù)、良率等并及時(shí)調(diào)整，保證產(chǎn)品質(zhì)量； 4、能夠獨(dú)立完成新產(chǎn)品新工藝開發(fā)和導(dǎo)入，光刻相關(guān)工藝優(yōu)化與深度開發(fā)； 5、制定工藝規(guī)范文件，對(duì)技術(shù)員、操作人員技能培訓(xùn)。 2、質(zhì)量管控工程師（20+萬/年）： 任職要求： 1、熟悉精細(xì)化工技術(shù)，有相關(guān)從業(yè)精細(xì)化工反應(yīng)釜合成、管控者優(yōu)先考慮； 2、根據(jù)光刻膠性能要求設(shè)計(jì)配方、按照配方制作樣品； 3、測試不同光刻膠配方的各項(xiàng)性能指標(biāo)，并分析、整理報(bào)告； 4、制作中試數(shù)量的光刻膠樣品，進(jìn)行批次穩(wěn)定性測試、老化試驗(yàn)； 5、對(duì)接原材料廠商、樹脂合成段、分析測試部門，明確原料需求； 6、對(duì)接光刻膠工程師，明確光刻膠產(chǎn)品需求，整理有關(guān)數(shù)據(jù)、文件； 7、產(chǎn)出完整的所負(fù)責(zé)光刻膠項(xiàng)目產(chǎn)品生產(chǎn)作業(yè)指導(dǎo)書 崗位職責(zé)： 1、負(fù)責(zé)反應(yīng)釜合成的有效進(jìn)行，與維保工作； 2、能夠熟練操作工藝設(shè)備并處理工藝異常，查找異常原因，提出具體整改措施并實(shí)施； 3、各類安全生產(chǎn)規(guī)章制度的編寫與完善，監(jiān)控工藝數(shù)據(jù)、良率等并及時(shí)調(diào)整，保證產(chǎn)品質(zhì)量； 4、制定工藝規(guī)范文件，對(duì)技術(shù)員、操作人員技能培訓(xùn)。 3、管培生（10+萬/年）： 具備良好的品質(zhì)與團(tuán)隊(duì)作戰(zhàn)能力，學(xué)習(xí)能力、溝通強(qiáng)能夠，立志成為優(yōu)秀的人。 歡迎優(yōu)秀者咨詢面談 辦公地點(diǎn)： 北京、蘇州、無錫、常州 聯(lián)系郵件： 咨詢可發(fā)郵件至：byronace@tsinghua.edu.cn 郵件主題請(qǐng)寫明：應(yīng)聘光刻膠+方向 公司簡介： 常州華睿芯材科技有限公司是依托清華大學(xué)技術(shù)研發(fā)，專注于半導(dǎo)體光刻膠及其配套化學(xué)品等關(guān)鍵微電子材料的創(chuàng)新研究、科研成果轉(zhuǎn)化及其產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)的公司。公司聚焦于半導(dǎo)體光刻膠成膜樹脂的研發(fā)，定位為以科技創(chuàng)新解決光刻膠“卡脖子”難題，滿足國家半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)重大戰(zhàn)略需求，本司致力成為國際一流光刻膠創(chuàng)新技術(shù)領(lǐng)先企業(yè)。 公司研制尺寸小至1 nm的系列成膜樹脂，配置EUV光刻膠：單次曝光指標(biāo)達(dá)16 nm(業(yè)內(nèi)指標(biāo)＜35 nm)；配置電子束光刻膠光刻：線條小至10 nm(業(yè)內(nèi)指標(biāo)28 nm系列、40 nm系列)；配置DUV光刻膠在ASML光刻機(jī)上取得優(yōu)異的曝光圖形。 公司目前在常州已購置3000m2的超凈間用于成膜樹脂的量產(chǎn)，并著手向光刻膠廠、Fab廠提供定制化服務(wù)。 [ 來自版塊群 江蘇 ] |
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