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影響勻膠機旋涂儀性能和厚度參數(shù)
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影響勻膠機旋涂儀性能和厚度參數(shù) 勻膠機旋涂儀對于從事微流控領域的研究者來說并不陌生,它可以用來制備膜厚度< 10nm薄膜,在1- 100um厚度的光刻膠沉積光刻工藝中也常常用到。在微流控領域,載玻片、硅片、ITO導電玻璃等都可作為薄 膜涂覆基底材料。其原理簡單來講,通過片托產(chǎn)生負壓,將需旋涂基底材料吸附在片托上,然后將涂覆材料膠 液滴注在基底材料表面,通過調(diào)節(jié)電機轉速,來改變離心力大小,同時控制膠液流量,從而獲得想要的膜厚 度,當然,膜厚度還跟旋涂時間、膠液粘度、溫度以及濕度等因素有關。 1、勻膠機性能相關的幾個參數(shù) (1 )片托材質(zhì):目前大部分勻膠機片托材質(zhì)采用的一般是鋁合金或者是普通塑料,原因是成本低,對于- -般要 求是能夠滿足需求的,但是對于要求比較嚴苛行業(yè)來說,比如半導體以及化工行業(yè),由于鋁合金抗腐蝕性不是 很好,高溫和高壓會導致塑料你變形等原因,對于片托的要求就比較高,目前一-般采用天然聚丙烯以及聚四氟 乙烯材料,原因是這兩種具有材質(zhì)綠色環(huán)保、重量輕、強度大,堅固耐用以及抗沖擊性能好等優(yōu)點。 (2 )真空吸附以及清洗系統(tǒng):真空泵系統(tǒng)壓力標定需準確,若實際壓力降低,可能會存在飛片現(xiàn)象,容易產(chǎn)生. 實驗事故。使用完旋涂儀后,需在泵開啟狀態(tài),用有機溶劑進行氣孔清洗,確保下次正常使用。 ( 3 )旋轉速度:轉速高低和精度控制將直接關系到后續(xù)選涂層的厚度以及膜層均勻性。因而標示的轉速和電機 實際轉速之間誤差需盡可能縮小,否則對于使用者來說無法獲得有用的實驗數(shù)據(jù)。 2、哪些操作行為能影響旋涂膜層厚度? ( 1 )膠滴滴注在基底材料表面,膠滴量需遠遠大于最終涂覆在表面的膠液量。 ( 2 )在恒定的時間,可通過改變旋轉基底速度,改變薄膜厚度。 ( 3 )以恒定的速率和時長旋轉基底,可通過膠液揮發(fā)性能影響膜厚度。 ( 4 )通過快速加速,使基底轉速快速達到設定的理想轉速。 ( 5 )保持旋涂速率不變,可通過改變基底旋涂時間,改變薄膜厚度。 ( 6 )保持恒定速率以及旋轉基底時長,可通過改變膠液粘度力來改變膜厚。 |
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