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hpf2672918新蟲 (小有名氣)
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[求助]
尋找 可協(xié)調(diào)做基礎(chǔ)實驗的【CVD制備SiC薄膜】設(shè)備
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制備工藝：化學(xué)氣相沉積 CVD 膜層材料：SiC薄膜 膜層厚度：20-40μm 所沉積的基體：帶有貫穿性裂紋的ZrO2陶瓷基體�；w尺寸：直徑30mm×5-10mm厚；或 50×10×5mm。（注：貫穿性裂紋寬度1μm，希望能通過沉積將裂紋填充） 其他需求：受疫情影響，薄膜制備地點需要在北京，便于去現(xiàn)場實際調(diào)整工藝。 萬分感謝�。�！ |
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新蟲 (小有名氣)
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2樓2022-02-25 16:28:15
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