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litho_hw新蟲 (初入文壇)
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[交流]
國科大《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》課程分享之二 已有3人參與
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中國科學院大學（以下簡稱國科大）微電子學院是國家首批支持建設的示范性微電子學院，國科大微電子學院開設的《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》課程是國內(nèi)少有的研究討論光刻技術的研究生課程，而開設課程的韋亞一研究員及其團隊具有多年的學術界及工業(yè)界的光刻技術經(jīng)驗積累，并出版有多本專著，其中《計算光刻與版圖優(yōu)化》一書更是列入中國科學院大學研究生教學輔導書系列。本號獲授權將陸續(xù)介紹《集成電路先進光刻技術與版圖設計優(yōu)化》課程中學生的一些專題調(diào)研結(jié)果，以及《計算光刻與版圖優(yōu)化》書籍相關內(nèi)容，未經(jīng)許可，禁止轉(zhuǎn)載。 (百度網(wǎng)盤自取） 鏈接：https://pan.baidu.com/s/1Jo0vcc8LTMuTIrYo7WUwzA 提取碼：hpte |
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2樓2022-01-25 11:05:23
4樓2023-03-10 11:07:25
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