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微流控芯片設(shè)計(jì) 已有1人參與
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想請教各位大神,如何能用光刻的手段來制備三維的微流控通道(比如制備一個(gè)三維的微流圓管) 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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木蟲 (正式寫手)
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現(xiàn)在電子芯片的加工工藝已經(jīng)到nm級(jí)別了,所以你要光刻出三維的結(jié)構(gòu),這個(gè)其實(shí)很簡單,采用無掩模直寫光刻系統(tǒng)可以實(shí)現(xiàn)。當(dāng)然也有其他的手段,比如采用高精密3D打印工藝也是可以的,但是3D打印的缺陷是非常明顯。 在這里和大家普及下3D打印的諸多缺陷:①3D打印的樹脂材料本身不適合微流控芯片;②3D打印的尺度基本上要在幾十微米以上的;③3D打印的價(jià)格其實(shí)很貴的,堪比光刻的費(fèi)用;④3D打印的器件如果作為PDMS澆注模具的話,那么脫模是你無法繞開的問題,而廠家是不會(huì)管你的,脫模脫不掉那就只能重新打印,這成本是很高昂的。所以強(qiáng)烈建議大家,做微流控就不要考慮3D打印了,里邊的坑太多。 但是,無掩模直刻系統(tǒng)就不一樣,這才是微加工應(yīng)該標(biāo)配的設(shè)備,這類產(chǎn)品在市場上很多,但是在微流控領(lǐng)域比較常用的是由英國劍橋大學(xué)卡文迪許實(shí)驗(yàn)室主任/英國皇家科學(xué)院院士Cowburn教授根據(jù)其研究工作的需要而專門設(shè)計(jì)開發(fā)的科研及研發(fā)生產(chǎn)用利器Durham臺(tái)式無掩膜直寫光刻系統(tǒng):3D加工: 256級(jí)灰度,可實(shí)現(xiàn)Z方向的不同深淺的加工。該設(shè)備引入國內(nèi)約三年時(shí)間,目前在國內(nèi)已經(jīng)擁有50幾個(gè)用戶,如清華,北大,復(fù)旦,上大,南大,中科大,浙大,中科院物理所,技物所各研究所等科研高等學(xué)府及科研院所;福州高義光學(xué),上海安翰醫(yī)療,北京ISBS科技等企業(yè),并贏得了一致良好的使用口碑。具體可以咨詢我哈! |
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