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鑫康新材料鐵蟲(chóng) (初入文壇)
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靶材鍍膜技術(shù)中的主要問(wèn)題及解答 已有3人參與
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靶材鍍膜技術(shù)可分為五種，分別是真空鍍膜， 電鍍，化學(xué)反應(yīng)，熱處理，物理或機(jī)械處理。 等離子技術(shù)在表面技術(shù)中有哪些應(yīng)用？ 濺射沉積：濺射是利用高速離子撞擊固體濺射靶材，使表面分子飛濺并投射到基板上形成薄膜。濺射離子的初始動(dòng)能約為 100 eV。常見(jiàn)的等離子氣體是氬氣。 等離子體輔助沉積：氣相化學(xué)沉積的化學(xué)反應(yīng)是在高溫基板上進(jìn)行，以獲得足夠的氣體前驅(qū)體能量響應(yīng)。 等離子聚合：聚合物或塑料薄膜最簡(jiǎn)單的涂層技術(shù)是將其涂在溶劑上，然后再涂在基材上。等離子體聚合涂覆法是將分子單體激發(fā)成等離子體，經(jīng)過(guò)化學(xué)反應(yīng)，形成均勻的聚合物，涂覆在基材上。由于基材受到等離子體的沖擊，附著力也很強(qiáng)。 等離子蝕刻：濕堿蝕刻是最簡(jiǎn)單、最便宜的方法，缺點(diǎn)是堿蝕刻有晶面取向，會(huì)引起底切問(wèn)題。 等離子噴涂：在高溫下工作的金屬部件必須用陶瓷覆蓋，以防止高溫腐蝕。 蒸發(fā)的加熱方式有哪些？他們的特點(diǎn)是什么？ 加熱方式有：（1）電阻加熱（2）感應(yīng)加熱（3）電子束加熱（4）激光加熱（5）電弧加熱。 它們各自的特點(diǎn)： (1)電阻加熱：這是最簡(jiǎn)單的加熱方式，其優(yōu)點(diǎn)是設(shè)備價(jià)格便宜，操作方便。 (2)感應(yīng)加熱：這種方式加熱效率好，加熱迅速，加熱容量大。 (3)電子束加熱：這種加熱方式是施加幾千eV的高能電子，通過(guò)磁場(chǎng)聚焦，直接受到蒸發(fā)材料的撞擊，溫度可高達(dá)30.00℃。它的電子來(lái)源有兩個(gè)：高溫金屬產(chǎn)生的熱電子，另一個(gè)電子來(lái)源是空心陰極放電。 (4)激光加熱：激光束可光學(xué)聚焦在蒸發(fā)源上，產(chǎn)生局部瞬時(shí)高溫逃逸。最早使用的是脈沖紅光激光器，后來(lái)發(fā)展了紫外準(zhǔn)分子激光器。紫外光的優(yōu)點(diǎn)是每個(gè)光子的能量遠(yuǎn)高于紅外光，因此準(zhǔn)分子激光器的功率密度非常高，加熱氣相沉積的功能與電子束相似。常用于涂覆復(fù)雜的化合物，涂層質(zhì)量非常好。 它與電子束加熱或?yàn)R射的過(guò)程有著根本的不同。準(zhǔn)分子激光與細(xì)小顆粒分離，后者以分子形式分離。 電弧加熱：陰極電弧沉積的優(yōu)點(diǎn)是： a、蒸發(fā)速度快，每秒可達(dá)1.0微米 b、基板不需要加熱 c、可鍍高溫金屬和陶瓷化合物 d、涂層致密，附著力好 真空鍍膜可以應(yīng)用于哪些行業(yè)？ (1)鏡片的抗反射涂層（MgO、MgF2、SiO2等）。 (2)金屬、合金或復(fù)合涂層，應(yīng)用于微電子作為導(dǎo)線、電阻、光電功能等用途。 (3) 鍍鋁或搪瓷絕緣作為電容器的電極。 (4)特殊合金涂層MCrAlY具有耐熱性和抗氧化性，耐溫可達(dá)1100℃，可應(yīng)用于耐高溫環(huán)境的工件，如高速切削成形、渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)葉片、等等。 (5) 玻璃板上的金屬鍍層，用于建筑物的裝飾和防紫外線。 (6)鋁的離子氣相沉積，在被鍍物上施加負(fù)高壓，然后將鋁加熱蒸發(fā)，蒸氣受電子撞擊電離后鍍到鋼板上。 (7)在膜上鍍鋁作裝飾或貼標(biāo)，涂層有金屬感。最大的用途是包裝，可以防止水分和空氣滲透。 (8) 機(jī)械零件或刀刃硬化的硬涂層膜（TiC、TiN、Al2O3） 這些超硬膜不僅硬度高，而且能有效提高耐磨性，且所需厚度小，可滿足對(duì)工件精度要求高。 (9) 特種合金薄片制造。 (10)在鋼板上施加多層膜以改善其性能。 (11) 在 CdS 太陽(yáng)能電池上鍍硅可以提高其效率。 (12) 納米粉體的制造是鍍?cè)诶浠迳�，使其不粘附�?br /> 一個(gè)好的薄膜有哪些特點(diǎn)？影響它的因素有哪些？ 一個(gè)好的薄膜通常定義為它的應(yīng)用功能在正常條件下不會(huì)失效。為了達(dá)到這個(gè)目的，一般來(lái)說(shuō)，這種薄膜必須具有強(qiáng)附著力、低內(nèi)應(yīng)力、低針孔密度、強(qiáng)機(jī)械性能、均勻的薄膜厚度和足夠的耐化學(xué)性。. 薄膜的性能主要受沉積工藝、成膜條件、界面層與基板的形成等因素的影響，后續(xù)的熱處理也起著重要的作用。 具有良好附著力的薄膜的基本特征是什么？ (1)界面層中的原子之間必須有很強(qiáng)的化學(xué)鍵。優(yōu)選具有化合物的形成或化學(xué)吸附。 (2)殘余應(yīng)力低，可能是由于鍍層與基體的晶格和熱膨脹系數(shù)不匹配，或薄膜本身存在雜質(zhì)或結(jié)構(gòu)不良造成的。 (3)沒(méi)有容易變形的表面結(jié)構(gòu)，如斷層結(jié)構(gòu)，機(jī)械粗糙的表面可以減少問(wèn)題的惡化。 (4)不存在長(zhǎng)期劣化的問(wèn)題。涂層暴露在大氣等外部環(huán)境中。如果沒(méi)有氧化等化學(xué)反應(yīng)，涂層自然就失去了功能。 膜厚的測(cè)量方法有哪些？ 大致可分為原位測(cè)量和異地測(cè)量?jī)煞N。 原位測(cè)量是指涂層的介質(zhì)測(cè)量，常用于物理氣相沉積，如微量天平、光學(xué)和電阻測(cè)量。 非現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量是指鍍層完成后的測(cè)量，鍍膜的運(yùn)動(dòng)比較常見(jiàn)，具有了解鍍層效率的目的，如質(zhì)量、輪廓儀、掃描電鏡等。 什么是物理蒸發(fā)？ 物理氣相沉積是使物質(zhì)揮發(fā)，然后將其沉積在預(yù)定基材上的過(guò)程。由于蒸發(fā)源要加熱揮發(fā)，而且是在真空中進(jìn)行，所以又稱為熱蒸發(fā)或真空蒸發(fā)。 可以分為三個(gè)步驟： (1)凝結(jié)物受熱揮發(fā)成汽相 (2) 蒸汽在空氣中移動(dòng)到基材一段距離 (3)蒸汽被冷卻并在基材上凝結(jié)成薄膜。 |
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2樓2021-06-02 17:53:53
3樓2021-06-03 17:14:13
鑫康新材料
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4樓2021-06-04 16:47:58
tesojynmkj
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5樓2021-08-27 10:46:44
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