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[求助]
高斯09怎么應用于計算分子印跡功能單體與模板的配比
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1)不同比例的功能單體和模板的能量值是如何計算的;2)使用高斯計算時,采用的是哪種計算方法;3)計算時是否考慮到其它因素的影響(溫度,溶劑效應等)。如果可以的話,希望哪位大神能給我一個模板 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |
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