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浮云總會(huì)有銀蟲 (著名寫手)
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[求助]
金屬輔助刻蝕硅片總是失敗
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大家好,最近本人在嘗試制備硅納米線,方法如下: (1)硅片清洗(DI H2O,乙醇,丙酮) (2)5% HF,90 s (3)0.02 M AgNO3/10% HF,60 s (4)10% HF:30% H2O2 (10:1, v%),8 min (5)35% HNO3,10 min 試了好多遍了,硅片表面沒(méi)有一點(diǎn)變化。硅片規(guī)格:p型,100 phase,1-5 Ω cm,單面拋光。每一步都很小心,不知道為什么。 AgNO3可能有點(diǎn)問(wèn)題,在10% HF溶液中形成了大量沉淀,不知是不是因?yàn)锳g沒(méi)有在硅片表面覆蓋,所以才無(wú)法刻蝕的。 刻蝕結(jié)束后,硅片表面無(wú)任何變化,拋光的一面還是可以映出倒影來(lái)。 求有經(jīng)驗(yàn)的老師和同學(xué)指點(diǎn)迷津。 |
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鐵桿木蟲 (著名寫手)
搞學(xué)術(shù)的帥比
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應(yīng)該是前三步的問(wèn)題,并且催化劑Ag納米顆粒沒(méi)有負(fù)載上,第一步,清洗,可以試一下食人魚溶液;第二步,HF可以刻蝕時(shí)間長(zhǎng)些。如果生成Si-H,Ag離子會(huì)被立即還原的! 發(fā)自小木蟲IOS客戶端 |

銀蟲 (著名寫手)
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