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袁星星362新蟲 (小有名氣)
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[求助]
磁控濺射額的WO3，在AZ 300MIF顯影液中溶解脫落，襯底為SiO2/Si，有什么好方法避免嗎
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各位科研大佬們，我用磁控濺射的一層50 nm的WO3，光刻使用的是負(fù)膠工藝，負(fù)膠是AZ2035，在經(jīng)過顯影液AZ300MIF顯影后后，較小面積的部分WO3出現(xiàn)溶解脫落的情況，大面積區(qū)域還在，各位大佬有類似經(jīng)歷嗎，特向各位請教如何處理？ 不勝感激！ 祝各位大佬科研順利，發(fā)paper順利！  |
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山峰先生
新蟲 (小有名氣)
- 應(yīng)助: 0 (幼兒園)
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- 專業(yè): 半導(dǎo)體光電子器件
2樓2023-12-26 07:01:11
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