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小木蟲論壇-學術(shù)科研互動平臺 » 材料區(qū) » 材料綜合 » 材料化學 » 急求Tauc圖求帶隙問題
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| 【懸賞金幣】回答本帖問題，作者dingdang619將贈送您 10 個金幣 | |||
dingdang619銀蟲 (小有名氣)
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[求助]
急求Tauc圖求帶隙問題
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請教各位大神，關(guān)于tauc圖求禁帶寬度不太懂，想請教幾個問題： 1.看文獻中利用tauc圖球半導體禁帶寬度有兩種做圖方式，一種是直接與橫坐標的求交點（圖b），一種好像是在曲線的拐點處擬合了兩條直線求交點(圖c)？請問這兩種有什么區(qū)別？到底哪種是標準的？ 2.圖a 是我做的光催化劑的tauc圖，a和c是兩種單獨的化合物，a+c是我做的復合材料，可以認為a+c綜合了二者的帶隙結(jié)構(gòu)嗎？a+c的活性要由于單獨的a和c，活性和帶隙之間的關(guān)系應(yīng)該如何解釋呢？ 圖片1.png |
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2樓2021-03-16 12:53:41
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