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Norla新蟲 (初入文壇)
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[交流]
InP上PECVD法生長SiN應(yīng)力問題 已有1人參與
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化合物半導(dǎo)體工藝大神們，有個技術(shù)問題求教一下，在InP上長SiN鈍化，能扛得住500多度高溫的Zn擴(kuò)散不會裂開，也擋得住擴(kuò)散就行。試了很久，要么很容易就在高溫下起泡要么就扛不住Zn擴(kuò)散，測暗電流測出來很大，高溫出來用稀鹽酸一泡就全部掉了，感覺應(yīng)該是應(yīng)力問題。目前recipe的條件如下： 工作頻率： 13.65MHz 溫度：260℃ 壓強(qiáng)：1.5Pa power：500W SiH4 ：110 sccm（He保護(hù)氣，5% 的 SiH4含量） NH3 : 8.8 sccm Ar：1000sccm 現(xiàn)在成膜速率大概十幾nm/min。沒有N2管路，所以只能試NH3。各位大神走過路過麻煩指點一下，謝謝 |
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2樓2021-01-20 21:48:10
Norla
新蟲 (初入文壇)
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3樓2021-01-21 09:10:53
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