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kwindyd新蟲 (初入文壇)
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[求助]
求助----有關(guān)金屬基復(fù)合材料TEM樣品的制備
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我使用離子減薄法制備納米陶瓷顆粒增強(qiáng)金屬基復(fù)合材料的時(shí)候，發(fā)現(xiàn)相比基體合金與合金第二相，陶瓷增強(qiáng)相不耐離子輻照。導(dǎo)致即使是在穿孔最邊緣的薄區(qū)，能觀察陶瓷增強(qiáng)相的位置邊上的金屬基體還非常厚，根本得不到高分辨相與高分辨的界面信息。能觀察到金屬基體與第二相的位置就完全觀察不到陶瓷增強(qiáng)相了。 請問這種情況下能否通過調(diào)節(jié)離子減薄參數(shù)（原參數(shù)是4° 4eV 鋅基體，大概45分鐘-1個(gè)半小時(shí)穿孔）來制備出可以得到界面高分辨像的樣品？還是說這種情況可以通過FIB或者雙噴得到優(yōu)質(zhì)TEM樣品？FIB本身也是離子束減薄是不是最終結(jié)果跟離子減薄相似？如果說雙噴的話，能否推薦一下適合鋅基材料的腐蝕液以及電壓與溫度。 拜托了，萬分感謝 |
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