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(11.5-11.6)IWAPS 2020 特邀嘉賓：斯坦福大學H.-S. Philip Wong教授
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第四屆國際先進光刻技術研討會（International Workshop on Advanced Patterning Solutions）將于11月5~6日在四川成都舉辦，本次會議特別邀請到了斯坦福大學H.-S. Philip Wong教授做特邀報告。 第四屆國際先進光刻技術研討會由中國集成電路創(chuàng)新聯(lián)盟與中國光學學會聯(lián)合主辦，由中國科學院微電子研究所、中國科學院光電技術研究所、中科微電子產業(yè)技術西南研究院以及四川省經濟合作局承辦。IWAPS研討會專注于高端光刻技術，為來自國內外半導體工業(yè)界、學術界的資深技術專家和優(yōu)秀研究人員等提供了一個技術交流平臺，參會者可以就材料、設備、工藝、測量、計算光刻和設計優(yōu)化等主題分享各自的研究成果，探討圖形化解決方案，研討即將面臨的技術挑戰(zhàn)。 H.-S.Philip Wong 博士于 2004 年加入斯坦福大學 (Stanford University)，擔任電氣工程教授，并在工程學院獲得 Willard R. 和 Inez Kerr Bell 教授職位。2018 年-2020年，他在全球最大半導體代工廠臺積電 (TSMC) 公司擔任研究副總裁，負責探索新一代半導體技術。1988 年至 2004 年，他在 IBM T.J. Watson 研究中心任職，負責制定和執(zhí)行 IBM 在納米科學技術以及探索性硅器件和半導體技術方面的戰(zhàn)略。H.-S. Philip Wong 博士是 IEEE 會士，曾擔任 IEEE Transactions on Nanotechnology 主編 (2005–2006)，ISSCC 的小組委員會主席 (2003–2004)，IEDM 的總主席 (2007)，目前是 IEEE Executive Committee of the Symposia of VLSITechnology and Circuits 執(zhí)行委員會主席。他是斯坦福大學非易失性存儲器技術研究計劃 (NMTRI) 的系主任，也是斯坦福 SystemX 聯(lián)盟的創(chuàng)始系主任。 詳情請關注微信公眾號：光刻人的世界 |
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